Materiais de Substrato de CI e Encapsulamento Avancado: Filme Seco, Isolamento e Filmes Fotoimaginaveis

O substrato de CI carrega o die e redistribui seu sinal para a placa, e e uma das pecas mais dificeis de fabricar no encapsulamento. Com a densidade de encapsulamento crescendo e a dimensao de recurso do substrato encolhendo para poucos micrometros, o conjunto de materiais que define a resolucao do substrato passa a ser uma compra que define rendimento. Este guia cobre as familias de materiais de substrato de CI e encapsulamento avancado, as especificacoes que controlam resolucao e confiabilidade, e o que verificar ao comprar da China.

Onde os materiais entram na construcao do substrato

Um substrato de CI tipico e construido sobre um nucleo rigido com camadas de build up em cada lado. O nucleo da suporte mecanico e estabilidade dimensional, enquanto as camadas de build up carregam o roteamento fino que conecta o die a esfera do pacote. O processo dominante de linha fina e o SAP, processo semi-aditivo, e suas variantes avancadas, em que uma camada semente fina e aplicada, padronizada e depois galvanizada com cobre. Quase todo material abaixo existe para fazer esse processo funcionar em dimensoes cada vez menores.

Fotoresiste seco em filme

O filme seco e um polimero fotossensivel entre um carreador e uma capa, laminado no painel, exposto e revelado para formar a mascara de galvanoplastia. E um dos consumiveis centrais do processo SAP, e sua resolucao define a linha e espaco alcancaveis.

Filme de isolamento de build up

O filme de isolamento e laminado sobre a camada de cobre concluida para isolar antes da proxima camada. Suas propriedades dieletricas definem a perda de sinal em alta frequencia, e seu coeficiente de expansao termica e cura definem a estabilidade dimensional.

Mascara de solda fotoimaginavel e filmes especiais

A mascara de solda fotoimaginavel define as aberturas onde a esfera de solda sera formada, e sua resolucao e aderencia decidem a confiabilidade. Filmes fotossensiveis de processo semi-aditivo suportam geometrias mais finas, e filmes de isolamento fotossensiveis combinam dielectrico e imagem.

Reveladores e quimicos auxiliares

Solucoes de TMAH e removedores de fotoresiste sao consumidos em volume no mesmo processo, e sua qualidade afeta diretamente resolucao e nivel de residuo.

Eixos que controlam resolucao e confiabilidade

1. Resolucao e capacidade de linha

Especifique a linha e espaco minimos que o material deve resolver em espessura definida, e a janela de energia de exposicao na qual o faz. Um numero de resolucao isolado nao diz nada, porque depende de espessura, dose, forca do revelador e processo.

2. Espessura e uniformidade do filme

Declare a espessura com tolerancia e o requisito de uniformidade no painel. Para filmes laminados, confirme a janela de laminacao e as condicoes de vacuo e temperatura nas quais a uniformidade se mantem.

3. Propriedades dieletricas

Para camadas de alta frequencia, especifique a constante dieletrica e a tangente de perdas na frequencia de operacao, nao em frequencia generica. A tangente de perdas domina a perda de insercao acima de alguns gigahertz.

4. Propriedades termicas e mecanicas

Especifique a temperatura de transicao vitrea, o coeficiente de expansao termica, a temperatura de decomposicao e o modulo, e confirme o ciclo de cura usado na medicao.

5. Aderencia e confiabilidade

Especifique a forca de descascamento ao cobre inferior e os ensaios de confiabilidade relevantes: ciclagem termica, armazenamento a alta temperatura, nivel de sensibilidade a umidade e, quando aplicavel, queda e dobra.

6. Pureza e contaminacao

Para as geometrias mais finas, contaminacao ionica no filme ou no revelador causa corrosao e fuga. Especifique os limites de ionicos extraiveis e, para revelador e removedor, o perfil de impurezas metalicas.

Verificacoes antes de qualificar um material

  • Confirme a resolucao na sua espessura e no seu equipamento de exposicao, rodando um painel de teste.
  • Meça espessura e uniformidade em painel laminado, nao no rolo de entrada.
  • Meça constante dieletrica e tangente de perdas na frequencia de operacao, em amostra curada.
  • Rode os ensaios de confiabilidade correspondentes ao pacote, incluindo sensibilidade a umidade.
  • Confirme o grau de revelador e removedor e os limites de contaminacao ionica.
  • Cheque a consistencia entre lotes da fotovelocidade, causa mais comum de deriva em linha qualificada.

Embalagem, armazenamento e validade

Filmes fotossensiveis sao pereciveis. Especifique temperatura de armazenamento, validade maxima a partir da fabricacao e se o filme exige atmosfera especifica. Confirme que a embalagem protege de luz e umidade. Um filme dentro da especificacao de datasheet mas apos a vida pratica de fotovelocidade ainda falha na linha.

Erros comuns de compra

  • Comprar pelo numero de resolucao de capa sem confirmar na sua espessura e equipamento.
  • Especificar constante dieletrica e tangente de perdas na frequencia errada.
  • Ignorar validade e estabilidade de fotovelocidade.
  • Nao casar o coeficiente de expansao termica da camada de build up com o cobre.
  • Comprar revelador e removedor por preco sem os limites de contaminacao ionica exigidos.

Materiais de substrato de CI e encapsulamento de Hunan e da China

A China desenvolveu capacidade substancial em substrato de CI e materiais de encapsulamento avancado. Hunan abriga fornecedores de materiais semicondutores e quimicos eletronicos. A LiiFoo mantem perfis verificados no cluster de materiais de ponta.

Para cotacoes alinhadas a especificacao, dados de painel de teste ou lista curta de qualificacao, veja o cluster acima ou fale com nossa equipe.

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